申请/专利权人：常州捷佳创精密机械有限公司

申请日：2023-12-31

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117810304A

主分类号：H01L31/18

分类号：H01L31/18;C23C16/24;C23C16/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明属于化学气相成膜技术领域，具体涉及一种提高P型微晶硅镀膜均匀性的方法及系统，选取玻璃片；在玻璃片的一面上镀一层种子层；或在玻璃片的一面上先镀一层本征非晶硅薄膜，然后在本征非晶硅薄膜表面镀一层种子层；在种子层表面进行P型微晶硅镀膜；实现了缩短了P型微晶硅薄膜生长过程中孵育和成核的过程；提高了P型微晶硅薄膜的均匀性；提高了P型微晶硅薄膜的晶化率。

主权项：1.一种提高P型微晶硅镀膜均匀性的方法，其特征在于，包括：选取玻璃片；在玻璃片的一面上镀一层种子层；或在玻璃片的一面上先镀一层本征非晶硅薄膜，然后在本征非晶硅薄膜表面镀一层种子层；在种子层表面进行P型微晶硅镀膜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 常州捷佳创精密机械有限公司 一种提高P型微晶硅镀膜均匀性的方法及系统

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