申请/专利权人：光辉科技股份有限公司

申请日：2022-05-26

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117813548A

主分类号：G03F1/88

分类号：G03F1/88;G03B27/00;G03F7/20;G03F3/04

优先权：["20210526 US 63/193,321"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.02#公开

摘要：用于能够实现复杂三维纳米结构的纳米制造的系统和方法，包括：设置凝胶支架；用光敏图案化材料来图案化所述凝胶支架，其中使用光将所述光敏图案化材料图案化到所述凝胶支架中，以生成所需构造体的形状即，产生所需构造体形状的潜在图案；将构建材料沉积到潜在图案上，从而所述构造体；以及，使构造体收缩到所需尺寸。该系统和方法利用光敏分子的光敏性和光定位的高精度来制造高分辨率制品。该系统和方法能够制造简单和复杂材料设计的纳米构造体，其中该构造体可以实现多种不同的构建材料和构建材料的梯度。

主权项：1.一种用于纳米制造平台的系统，包括：凝胶支架；潜在图案化材料，所述潜在图案化材料选择性地结合所述凝胶支架，包括基于非氧杂蒽的发色团；和构建材料，所述构建材料包括结合所述潜在图案化材料的共轭化学物质。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 光辉科技股份有限公司 用于高分辨率三维纳米制造的系统及方法

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