申请/专利权人：成都路维光电有限公司

申请日：2021-04-23

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN113138529B

主分类号：G03F1/72

分类号：G03F1/72;G03F1/84;H01L21/66

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.08.06#实质审查的生效;2021.07.20#公开

摘要：本发明公开了一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统，先扫描待检测的Mask基板得到Mask基板扫描图形，对Mask基板扫描图形进行初步缺陷标记获得初步缺陷点位信息；再根据初步缺陷点位信息对每个初步缺陷点位进行复检，筛选出超标假缺陷点位并判断假缺陷点位数量是否超标，若是，则根据假缺陷点位的类型进行假缺陷点位筛除；最后保留记录缺陷点位信息；本发明对Mask基板的上版位置、关键工艺参数以及设备状态等多个方面全面分析了掩模版AOI假缺陷的产生原因，并针对三类假缺陷分别提出切实有效的改善对策，整体上实现方法简单可靠，能够创造较大的经济效益。

主权项：1.一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法，其特征在于，包括步骤：S1、扫描待检测的Mask基板得到Mask基板扫描图形；S2、基于Mask基板扫描图形和Mask基板标准图像对Mask基板扫描图形进行初步缺陷标记获得初步缺陷点位信息；S3、根据初步缺陷点位信息对每个初步缺陷点位进行复检，筛选出假缺陷点位并判断假缺陷点位数量是否超标：若是，则先判断出假缺陷点位的类型，再根据假缺陷点位的类型进行假缺陷点位筛除；否则，剔除假缺陷点位信息后进入S4；所述假缺陷点位包括：横线类假缺陷点位、边缘类假缺陷点位和角落类假缺陷点位；当判断出假缺陷点位是横线类假缺陷点位时，假缺陷点位筛除方法为：调整Mask基板的上版位置和AOI设备的夹具位置，确保Mask基板与AOI设备的夹具之间、Mask基板与AOI设备的载具之间无缝隙搭载；返回S1循环执行S1-S3直至假缺陷点位不超标进入S4；当假缺陷点位是边缘类假缺陷点位时，假缺陷点位筛除方法为：重新设置AOI系统的ScaleFactor扫描参数值；返回S1循环执行S1-S3直到假缺陷点位不超标进入S4；当假缺陷点位是角落类假缺陷点位时，假缺陷点位筛除方法为：先调整初步缺陷标记参数，再改变AOI扫描过程Mask基板运动依附平台的局部温度；S4、保留记录缺陷点位信息。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 成都路维光电有限公司 一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD