申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-12-22

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117862148A

主分类号：B08B9/087

分类号：B08B9/087;C23C16/44;C30B25/02;B08B9/093;B08B13/00;B08B15/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及一种清洁装置，用于对MOCVD设备进行清洁，MOCVD设备包括反应室、旋转盘和喷淋头，清洁装置包括：第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置，第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置均可拆卸安装于旋转盘上，第一清洁装置用于清洁反应室顶盖，第二清洁装置用于清洁喷淋头，第三清洁装置用于清洁反应室腔体的内侧壁。该清洁装置能够有效提高MOCVD设备的清洁度，并且使得MOCVD设备的整个清洁过程中产生的粉尘和气体不易飞溅溢出，有效减少MOCVD设备清洁过程中产生的粉尘溅射以及粉尘和气体对人体的危害，进而有效提高MOCVD设备的稳定性和产品的良品率，使得MOCVD设备的整体性能得以有效提升。

主权项：1.一种清洁装置，用于对MOCVD设备进行清洁，所述MOCVD设备包括反应室、旋转盘和喷淋头，所述反应室包括反应室腔体以及盖设于所述反应室腔体的开口端的反应室顶盖，所述旋转盘转动设置于所述反应室腔体内，所述喷淋头设置于所述反应室顶盖朝向所述反应室腔体的一侧，其特征在于，所述清洁装置包括：第一清洁装置、第二清洁装置和第三清洁装置，所述第一清洁装置、所述第二清洁装置和所述第三清洁装置均可拆卸安装于所述旋转盘上，所述第一清洁装置用于清洁所述反应室顶盖，所述第二清洁装置用于清洁所述喷淋头，所述第三清洁装置用于清洁所述反应室腔体的内侧壁。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 清洁装置

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