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【发明公布】一种曝光机的分区对位聚焦方法_江苏影速集成电路装备股份有限公司_202410146078.8 

申请/专利权人:江苏影速集成电路装备股份有限公司

申请日:2016-11-22

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117872688A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本发明公开了一种曝光机的分区对位聚焦方法,包括:1在曝光之前,CCD相机抓取PCB板四个角的定位孔的坐标后,与电子档图形文件中相对应的定位孔坐标进行比对,建立电子档图形与PCB板的实际对应关系;2在曝光之前,将待曝光区域划分为M×N个子区域;3分别计算每个子区域四个顶点的最佳焦面距离;如果这四个顶点的最佳焦面距离的最大差值在允许的误差范围之内,则以这四个顶点的最佳焦面距离的平均值作为该子区域曝光的焦面距离;如果这四个顶点的最佳焦面距离的最大差值不在允许的误差范围之内,重复进行本步骤,直至每个子区域内的最佳焦面距离在误差范围内。本发明提供的分区对位聚焦方法可以确保图像曝光位置准确,图像曝光清楚。

主权项:1.一种曝光机的分区对位聚焦方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:1在曝光之前,CCD相机抓取PCB板四个角的定位孔的坐标后,与电子档图形文件中相对应的定位孔坐标进行比对,建立电子档图形与PCB板的实际对应关系;如果CCD相机抓取的定位孔坐标与电子档图形文件中相应的坐标一致,进行步骤2;如果CCD相机抓取的定位孔坐标与电子档图形文件中相应的坐标不一致,将电子档图形文件进行调整使之与CCD相机抓取的定位孔坐标保持一致,光路曝光的起始位置也随之确定,继续进行步骤2;2在曝光之前,将待曝光区域划分为M×N个子区域;3分别计算每个子区域四个顶点的最佳焦面距离;如果这四个顶点的最佳焦面距离的最大差值在允许的误差范围之内,则以这四个顶点的最佳焦面距离的平均值作为该子区域曝光的焦面距离;如果这四个顶点的最佳焦面距离的最大差值不在允许的误差范围之内,将该子区域再划分为A×B个二级子区域,计算每个二级子区域四个顶点的最佳焦面距离,重复进行本步骤,直至每个子区域内的最佳焦面距离在误差范围内。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江苏影速集成电路装备股份有限公司 一种曝光机的分区对位聚焦方法

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