申请/专利权人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司

申请日：2023-12-01

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117867470A

主分类号：C23C16/44

分类号：C23C16/44;C23C16/24;C23C16/48;C23C16/52;C23C16/458

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明公开了一种HWCVD镀膜设备及镀膜工艺，HWCVD镀膜设备包括镀膜室、载板及驱动模块，镀膜腔内设有沿第一方向间隔排布的多排丝行，平行于丝行延伸方向向镀膜腔通入工艺气体，载板用于承载待镀基底，驱动模块用于驱动载板沿第二方向移动，第二方向与所述丝行的延伸方向互成a角，镀膜工艺采用HWCVD镀膜设备执行。在镀膜过程中，待镀基底跟随载板同步移动，待镀基底上的某个待镀位置能够移动至热丝周围的不同热辐射区域，不同区域的活性粒子向待镀基底的沉积在载板移动过程中得到均化，热丝周围催化裂解形成的活性粒子受到扰动，不同辐射区域的活性粒子分布更加均衡，活性粒子能够均匀沉积于待镀基底表面，提高镀膜均匀性。

主权项：1.HWCVD镀膜设备，其特征在于，包括：镀膜室，内部具有镀膜腔，所述镀膜腔内设有沿第一方向排布的多排丝行，所述镀膜室还具有出气口，所述出气口用于向所述镀膜腔通入工艺气体，所述出气口在所述第一方向上位于相邻的所述丝行之间，以使所述气流平行于所述丝行延伸方向流动；载板，用于承载待镀基底；驱动模块，与所述载板连接，并用于驱动所述载板沿第二方向移动，所述第二方向平行于所述第一方向与所述丝行的延伸方向所在平面，并与所述丝行的延伸方向互成a角，0°＜a＜180°。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 HWCVD镀膜设备及镀膜工艺

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