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【实用新型】流体泄露检测装置及半导体工艺设备_武汉新芯集成电路制造有限公司_202321355846.8 

申请/专利权人:武汉新芯集成电路制造有限公司

申请日:2023-05-26

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN220770845U

主分类号:F17D5/06

分类号:F17D5/06;F16L41/02

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权

摘要:本实用新型提供了一种流体泄露检测装置及半导体工艺设备,所述流体泄露检测装置用于检测相邻两条管路连接处的法兰扣合处是否发生流体泄露,所述流体泄露检测装置包括卡环本体和传感器,所述卡环本体的内壁设置有导流槽;在所述卡环本体安装在所述相邻两条管路连接处时,所述法兰的边缘插入所述导流槽中,所述传感器能够检测所述法兰扣合处泄露至所述导流槽中的流体。本实用新型的技术方案能够及时地检测到流体泄露情况,且更加容易管控。

主权项:1.一种半导体工艺设备,其特征在于,包括至少两条管路、设置于相邻两条管路连接处的法兰以及流体泄露检测装置,所述流体泄露检测装置用于检测所述相邻两条管路连接处的法兰扣合处是否发生液体泄露,所述流体泄露检测装置包括卡环本体和传感器,所述卡环本体的内壁设置有导流槽;所述卡环本体安装在所述相邻两条管路连接处,所述法兰的边缘插入所述导流槽中,所述传感器能够检测所述法兰扣合处泄露至所述导流槽中的液体;所述管路在水平方向延伸时,所述传感器设置于所述管路下方的所述导流槽的内壁上;所述管路在竖直方向延伸时,所述导流槽靠下的侧壁倾斜设置,所述传感器设置于倾斜的所述侧壁的最低处。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉新芯集成电路制造有限公司 流体泄露检测装置及半导体工艺设备

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