申请/专利权人：苏州恩腾半导体科技有限公司

申请日：2023-11-27

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117373988B

主分类号：H01L21/683

分类号：H01L21/683;H01L21/67;H01L21/66

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2024.01.26#实质审查的生效;2024.01.09#公开

摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种基于伯努利卡盘的晶圆保持装置，包括：卡盘，其顶面形成有环形吸附区域；转动组件，设置在卡盘的下方，转动组件上设有用于为卡盘提供气流以形成环形吸附区域的进气通道，转动组件上设有出气通道；卡盘的中部设有与出气通道连通的通孔；检测模块，用于获取通孔内气体的第一流量以及出气通道远离通孔一端内气体的第二流量，并判断卡盘以预设间隙距离在预设气体流量下对晶圆夹持时，转动组件是否发生泄漏。环形吸附区域各处负压均衡，为晶圆提供稳定吸附力；检测模块能够监测气体流量的情况，并对供气流量进行适应性调节，保证对晶圆的稳定夹持和蚀刻的均匀性，防止溶液对晶圆边缘污染，提升刻蚀质量。

主权项：1.一种基于伯努利卡盘的晶圆保持装置，其特征在于，包括：卡盘1，其顶面形成有环形吸附区域2；转动组件3，设置在卡盘1的下方，所述转动组件3上设有用于为卡盘1提供气流以形成环形吸附区域2的进气通道4，所述转动组件3上还设有出气通道5；所述卡盘1的中部设有与出气通道5连通的通孔6；检测模块，用于获取所述通孔6内气体的第一流量以及出气通道5远离通孔6一端内气体的第二流量，并判断卡盘1以预设间隙距离在预设气体流量下对晶圆7夹持时，转动组件3是否发生泄漏；所述预设间隙距离为，卡盘1对晶圆7进行稳定夹持时，晶圆7与卡盘1之间的间隙距离；所述预设气体流量为，在预设间隙距离下，卡盘1对晶圆7进行稳定夹持时所需要的最小气体流量；所述检测模块包括：第一气体流量传感器，用于获取所述通孔6内气体的第一流量；第二气体流量传感器，用于获取所述出气通道5远离通孔6一端内气体的第二流量；控制判断单元，用于依据获取的第一流量和第二流量判断转动组件3工作时是否发生泄漏，并控制卡盘1对晶圆7的吸附力保持在预设范围内；所述控制判断单元包括：第一判断子单元，用于判断第一流量是否在第一预设流量范围内，若是，则表示进气通道4处未发生泄漏，若否，则表示进气通道4处发生泄漏；第二判断子单元，用于在第一流量在第一预设流量范围内时，判断第二流量是否在第二预设流量范围内，若是，则表示出气通道5处未发生泄漏，若否，则表示进气通道4处发生泄漏；控制子单元，用于在第一判断子单元的判断结果为进气通道4处发生泄漏时，增加进气通道4的气体流量，以使第一流量在第一预设流量范围内，并同时发出进气通道4泄漏的报警提示；在第二判断子单元的判断结构为出气通道5处发生泄漏时，发出出气通道5泄漏的报警提示；所述预设间隙距离以及预设气体流量的确定方法包括：采用晶圆保持装置对晶圆试样进行夹持并带动晶圆试样旋转，在检测时间段内由上方获取晶晶圆试样旋转的视频图像，以及多次获取晶圆试样顶面上的多个检测点相对于参考平面的检测距离；依据获取的视频图像中连续的晶圆图像序列，获得在当前气体流量以及间隙距离下晶圆试样的偏移量；依据获取的检测距离，获得当前气体流量以及间隙距离下晶圆试样的波动情况；若晶圆试样的波动满足预设波动范围，同时晶圆试样的偏移量满足预设偏移范围，则以当前的间隙距离为预设间隙距离，并以当前的气体流量为目标气体流量；在预设间隙距离下，将当前的气体流量调节至小于或等于目标气体流量，再次获得晶圆试样的偏移量和晶圆试样的波动情况，使晶圆试样的偏移量满足预设偏移范围，且使晶圆试样的波动满足预设波动范围的最小气体流量为预设气体流量；依据获取的视频图像中的多个晶圆图像，获得在当前气体流量以及间隙距离下晶圆试样的偏移量，包括：随机选取一个晶圆图像作为目标图像，其余的晶圆图像作为对比图像；从目标图像中获取晶圆试样的位置参数作为目标位置参数，从对比图像中获取晶圆试样的位置参数作为对比位置参数，分别将多个对比位置参数与目标位置参数进行对比，获得多个对比图像相对于目标图像的偏移量。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州恩腾半导体科技有限公司 一种基于伯努利卡盘的晶圆保持装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD