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【发明公布】一种半导体紫光紫外激光二极管_安徽格恩半导体有限公司_202410010134.5 

申请/专利权人:安徽格恩半导体有限公司

申请日:2024-01-04

公开(公告)日:2024-03-12

公开(公告)号:CN117691466A

主分类号:H01S5/20

分类号:H01S5/20;H01S5/30

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.29#实质审查的生效;2024.03.12#公开

摘要:本发明提出了一种半导体紫光紫外激光二极管,包括从下至上依次设置的衬底、下限制层、下波导层、有源层、上波导层和上限制层,所述上波导层与所述上限制层之间设置有空穴注入与电子阻挡层,所述空穴注入与电子阻挡层具有Mg掺杂浓度分布、Al元素分布、Si掺杂浓度分布、C元素分布、H元素分布和O元素分布特性。本发明使半导体紫外激光器降低Mg激活能并提升Mg离化效率,提升空穴注入与电子阻挡层的空穴浓度,提升空穴注入有源层的效率和输运效率,并且降低内部光学损耗,同时不降低电子势垒,改善电子溢流效应,兼具提升空穴注入效率和阻挡电子溢流的双重功能,进而降低紫外激光器的阈值电流和电压,提升紫外激光器的斜率效率。

主权项:1.一种半导体紫光紫外激光二极管,包括从下至上依次设置的衬底、下限制层、下波导层、有源层、上波导层和上限制层,其特征在于,所述上波导层与所述上限制层之间设置有空穴注入与电子阻挡层,所述空穴注入与电子阻挡层具有Mg掺杂浓度分布、Al元素分布、Si掺杂浓度分布、C元素分布、H元素分布和O元素分布特性。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 安徽格恩半导体有限公司 一种半导体紫光紫外激光二极管

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