申请/专利权人：福建晶安光电有限公司

申请日：2022-05-30

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN114850127B

主分类号：B08B3/12

分类号：B08B3/12;B08B3/08

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.15#授权;2022.08.23#实质审查的生效;2022.08.05#公开

摘要：本发明提供了一种滤波器基片的清洗工艺，采用超声波清洗装置对待清洗基片进行酸洗、水洗、碱洗等，搭配改进的提篮运动方式，改进了传统的滤波器基片清洗工艺，在有效去除表面脏污的前提下，可保障基片的成品率，大幅降低因清洗导致的破片情况，降低生产成本，经过本发明清洗工艺获得的基片，洁净度良好，后续滤波器器件的成品率更高，产品竞争力更强。

主权项：1.一种滤波器基片的清洗工艺，其特征在于，包括下列步骤：S1：将待清洗的滤波器基片放入超声波清洗装置的酸性清洗槽中清洗30~90min；S2：将S1处理完成的滤波器基片放入超声波清洗装置的清水槽中进行表面去酸；S3：将S2处理完成的滤波器基片放入超声波清洗装置的碱性清洗槽中，进行连续2个碱性清洗槽的清洗；S4：将S3处理完成的滤波器基片放入超声波清洗装置的清水槽中，去除基片表面的清洗剂；S5：将S4处理完成的滤波器基片放入兆声波清洗机的碱性清洗槽中进行清洗；S6：对S5处理完成的滤波器基片进行刷洗作业，得到清洗后的滤波器基片，所述基片表面颗粒数量小于50ea，破片率小于1%；上述步骤S1~S4中的超声波清洗装置还包括用于承载滤波器基片的提篮和用于带动提篮运动的连接杆，以连接杆远离提篮的一端为圆心，所述连接杆带动提篮绕圆心做往复运动，所述运动夹角为30°~90°。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 福建晶安光电有限公司 一种滤波器基片的清洗工艺

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