申请/专利权人：佳能特机株式会社

申请日：2019-09-03

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN111074231B

主分类号：C23C14/54

分类号：C23C14/54;C23C14/24

优先权：["20181022 JP 2018-198616"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.19#授权;2021.11.09#实质审查的生效;2020.04.28#公开

摘要：本发明提供一种能够实现成膜速率的稳定的检测的技术。具备：配置在腔室200内，通过从蒸发源容器301蒸发的成膜材料400而形成有基底膜的第一水晶振子13；配置在腔室200内，用于获取基底膜的成膜速率的第二水晶振子13c；基于第二水晶振子13c的共振频率的变化来获取基底膜的成膜速率的获取部233；以及具有对蒸发源容器301进行加热的加热源302并控制向加热源302供给的电力的加热控制部22，该加热控制部22基于获取部233获取的基底膜的成膜速率来控制向加热源302供给的电力。

主权项：1.一种成膜装置，具备基底成膜速率监测装置，其具备基底膜监测单元和基底膜监测控制部，监测第一水晶振子的基底膜的成膜速率，所述成膜装置的特征在于，所述第一水晶振子配置在进行成膜处理的腔室内，在成膜对象物被送入所述腔室内之前，所述第一水晶振子通过从被加热源加热的蒸发源容器蒸发的成膜材料来形成基底膜，在形成所述基底膜之后，为了获取成膜材料对于配置在所述腔室内的成膜对象物的成膜速率而使用所述第一水晶振子，所述蒸发源容器收容所述成膜材料，所述加热源对所述蒸发源容器进行加热，所述基底膜监测单元具备第二水晶振子，所述第二水晶振子预先形成由所述成膜材料形成的基底膜，配置在所述腔室内，用于获取所述第一水晶振子的基底膜的成膜速率，所述基底膜监测控制部具备基于所述第二水晶振子的共振频率的变化来获取所述第一水晶振子的基底膜的成膜速率的基底成膜速率获取部，所述成膜装置还具备加热控制部，所述加热控制部基于所述第一水晶振子的基底膜的成膜速率来控制向所述加热源供给的电力。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能特机株式会社 成膜装置、基底膜形成方法、及成膜方法

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