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【发明授权】掩膜组件及沉积装置_合肥维信诺科技有限公司_202111359892.0 

申请/专利权人:合肥维信诺科技有限公司

申请日:2021-11-17

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN114032524B

主分类号:C23C16/04

分类号:C23C16/04

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.19#授权;2022.03.01#实质审查的生效;2022.02.11#公开

摘要:本申请提供一种掩膜组件及沉积装置,涉及显示屏制造设备技术领域,用于解决采用化学气相沉积方法制作无机封装层时,易在封装区域外的非封装区域沉积有无机封装材料的技术问题,该掩膜组件包括掩膜版和设置于掩膜版上的遮蔽板,遮蔽板用于将掩膜版压向待沉积基板,掩膜版设置有多个第一开口,遮蔽板设置有多个第二开口,每个第二开口在掩膜版上的投影覆盖至少一个第一开口。

主权项:1.一种掩膜组件,其特征在于,包括掩膜版和设置于所述掩膜版上的遮蔽板,所述掩膜版设置有多个第一开口;所述遮蔽板用于将所述掩膜版压向待沉积基板,所述遮蔽板设置有多个第二开口,每个所述第二开口在所述掩膜版上的投影覆盖至少两个所述第一开口;每个所述第二开口对应两个或两个以上所述第一开口。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 合肥维信诺科技有限公司 掩膜组件及沉积装置

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