申请/专利权人：苏州矽行半导体技术有限公司

申请日：2024-01-08

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117557555B

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00;G06T7/33;G06T5/70

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2024.03.01#实质审查的生效;2024.02.13#公开

摘要：本发明涉及一种逻辑芯片掩膜版缺陷检测方法，包括：扫描参照晶圆的影像，作为基准参照图像Ir；扫描待测晶圆的影像，作为待测图像It；对基准参照图像Ir和待测图像It进行配准，消除两次图像空间尺度的位移和扭曲噪声，消除两次图像的图像明暗差异噪声；采用差分匹配滤波，获得差异；当差异超出设定阈值时，记录为缺陷，从而能够有效检测出逻辑芯片掩膜版上的残留缺陷，极大地保障图形晶圆的良率，尤其适用于晶圆明场检测设备对逻辑芯片掩膜版缺陷的检测中，助力于提升设备的检测覆盖率。

主权项：1.一种逻辑芯片掩膜版缺陷检测方法，其特征在于：包括如下步骤：扫描参照晶圆的影像，作为基准参照图像Ir，选用通过检测的晶圆作为参照晶圆；扫描待测晶圆的影像，作为待测图像It；对基准参照图像Ir和待测图像It进行配准，消除两次图像空间尺度的位移和扭曲噪声，消除两次图像的图像明暗差异噪声；采用差分匹配滤波，获得差异；当差异超出设定阈值时，记录为缺陷；在对参照晶圆、待测晶圆扫描获得影像后，分别对影像进行加权平均，获得基准参照图像Ir和待测图像It；所述加权平均的方法为：计算各个晶粒的图像质量评估函数Si=GIi，其中，G是梯度算子，S是梯度强度的和，设定有n个晶粒，每个晶粒的图像为I1,I2,…,In；基于图像质量评估函数Si，进行加权平均如下： ；获得与参照晶圆、待测晶圆对应的基准参照图像Ir和待测图像It；对基准参照图像Ir和待测图像It，依次进行亚像素空间配准和直方图均衡，进行空间和灰度的配准，来消除两次图像空间尺度的位移和扭曲噪声，消除两次图像的图像明暗差异噪声；以（x,y）表示图像上的一个像素位置，当满足： ；获得配准后两个图像的亚像素空间位移；将基准参照图像Ir进行配准，获得空间配准后的基准参照图像Ir2： ；对空间配准后的基准参照图像Ir2和待测图像It，进行直方图均衡，获得明暗配准后的基准参照图像Ir3，为： 。

全文数据：

权利要求：

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