申请/专利权人：常州第六元素半导体有限公司

申请日：2022-02-07

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN114703466B

主分类号：C23C16/54

分类号：C23C16/54;C23C16/52

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2022.07.22#实质审查的生效;2022.07.05#公开

摘要：本发明提供连续式CVD薄膜制造设备，包括进样舱、加热舱、工艺舱和冷却舱，所述进样舱用于在真空环境下将基底层送入加热舱，所述加热舱用于对基底层进行加热后送入工艺舱，所述工艺舱用于对加热后的基底层进行气相沉积获得薄膜，将薄膜送入冷却舱，所述冷却舱用于对薄膜进行冷却。本发明还提供方法。本发明加工难度低、制造成本低、后期维护更换方便，维护成本低，利于产业化的推进。

主权项：1.一种连续式CVD薄膜制造设备，其特征在于，包括进样舱、加热舱、工艺舱和冷却舱，所述进样舱用于在真空环境下将基底层送入加热舱，所述加热舱用于对基底层进行加热后送入工艺舱，所述工艺舱用于对加热后的基底层进行气相沉积获得薄膜，将薄膜送入冷却舱，所述冷却舱用于对薄膜进行冷却；所述进样舱、加热舱、工艺舱和冷却舱均包括传输系统，所述传输系统包括样品架和多个传送轮，所述多个基底层放置在样品架上，通过传送轮转动带动样品架移动；样品架采用碳碳复合材料制作，中间开有透气窗口，透气窗口中间有碳纤维丝编织成的网；其中，所述工艺舱还包括抽真空系统、加热机构、测温机构、匀热板和进气机构，所述抽真空系统对工艺舱抽真空；所述加热机构用于使得工艺舱到达工艺温度并维持在工艺温度范围；所述匀热板设置在加热机构和匀流板之间；所述测温机构包括热电偶和红外温度计，所述热电偶对匀热板的各个区域温度进行检测调整，使腔室内温度均匀一致，所述红外温度计监控样品表面实际温度，并根据测得的温度对加热机构进行调控；所述进气机构用于通入气体，在样品台的基底层上进行气相沉积，所述进气机构包括气管、流量计、混气罐和设置在匀热板和基底层之间的匀流板，所述混气罐进行不同气体的混合，所述气管用于将混气罐混合后的气体送入匀流板，所述流量计控制进入混气罐气体及其流量，所述匀流板将混气罐混合后的气体均匀散布在基底层表面。

全文数据：

权利要求：

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