申请/专利权人：日产化学株式会社

申请日：2022-08-17

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN117836718A

主分类号：G03F7/11

分类号：G03F7/11;C08F20/26;G03F7/20

优先权：["20210827 JP 2021-138741"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要：本发明提供一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有下述式1表示的单元结构A的聚合物及溶剂。式1中，R1表示氢原子或碳原子数为1～10的烷基，L1表示选自碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～40的芳基、及1价杂环基的1价有机基团。上述烷基、上述芳基及上述1价杂环基所具有的至少1个氢原子被卤素原子取代。上述烷基、上述芳基及上述1价杂环基所具有的至少1个氢原子可以被羟基取代。

主权项：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含含有下述式1表示的单元结构A的聚合物和溶剂； 式1中，R1表示氢原子或碳原子数为1～10的烷基，L1表示选自碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～40的芳基、及1价杂环基的1价有机基团；所述烷基、所述芳基和所述1价杂环基所具有的至少1个氢原子被卤素原子取代；所述烷基、所述芳基和所述1价杂环基所具有的至少1个氢原子可以被羟基取代。

全文数据：

权利要求：

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