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【发明公布】阳极短路横向绝缘栅双极晶体管模型及其建模方法_无锡华润上华科技有限公司_202210927589.4 

申请/专利权人:无锡华润上华科技有限公司

申请日:2022-08-03

公开(公告)日:2024-02-13

公开(公告)号:CN117556761A

主分类号:G06F30/367

分类号:G06F30/367

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.03.01#实质审查的生效;2024.02.13#公开

摘要:本发明涉及一种阳极短路横向绝缘栅双极晶体管模型,包括:NMOS管M1,所述NMOS管M1的源极连接所述SA‑LIGBT的发射极,所述NMOS管M1的栅极连接所述SA‑LIGBT的栅极;NPN三极管QN1,所述NPN三极管QN1的发射极连接所述NMOS管M1的漏极,所述NPN三极管QN1的集电极连接所述SA‑LIGBT的集电极;PNP三极管QP1,所述PNP三极管QP1的发射极连接所述SA‑LIGBT的集电极和所述NPN三极管QN1的基极,所述PNP三极管QP1的集电极连接所述SA‑LIGBT的发射极,所述PNP三极管QP1的基极连接所述NPN三极管QN1的发射极;受控电流源G2,一端连接所述NPN三极管QN1的发射极,另一端连接所述NMOS管M1的源极,所述受控电流源G2产生的电流受控于所述NMOS管M1的电流。本发明能够很好地拟合器件的静态特性和开关特性。

主权项:1.一种阳极短路横向绝缘栅双极晶体管模型,其特征在于,适用于阳极具有NPN三极管的SA-LIGBT,所述SA-LIGBT包括第一导电类型的基区,位于所述基区中的第二导电类型的体区,位于所述体区中的第一导电类型掺杂区,以及位于所述体区中的第二导电类型掺杂区,所述第一导电类型掺杂区和第二导电类型掺杂区引出作为所述SA-LIGBT的集电极;所述模型包括:NMOS管M1,所述NMOS管M1的源极连接所述SA-LIGBT的发射极,所述NMOS管M1的栅极连接所述SA-LIGBT的栅极;NPN三极管QN1,所述NPN三极管QN1的发射极连接所述NMOS管M1的漏极,所述NPN三极管QN1的集电极连接所述SA-LIGBT的集电极;PNP三极管QP1,所述PNP三极管QP1的发射极连接所述SA-LIGBT的集电极和所述NPN三极管QN1的基极,所述PNP三极管QP1的集电极连接所述SA-LIGBT的发射极,所述PNP三极管QP1的基极连接所述NPN三极管QN1的发射极;受控电流源G2,一端连接所述NPN三极管QN1的发射极,另一端连接所述NMOS管M1的源极,所述受控电流源G2产生的电流受控于所述NMOS管M1的电流。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 无锡华润上华科技有限公司 阳极短路横向绝缘栅双极晶体管模型及其建模方法

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