申请/专利权人：纽富来科技股份有限公司

申请日：2019-10-28

公开（公告）日：2024-02-23

公开（公告）号：CN112840437B

主分类号：H01L21/027

分类号：H01L21/027;G03F7/20;H01J37/305

优先权：["20181109 JP 2018-211526"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.23#授权;2021.06.11#实质审查的生效;2021.05.25#公开

摘要：对因带电现象而导致的位置偏移高精度地进行修正。带电粒子束描绘装置100具备：使用图案密度分布以及照射剂量分布来算出带电粒子束的照射量分布的照射量分布算出部33；通过对多个覆盖带电粒子的分布函数的各个与照射量分布分别进行卷积积分来算出多个覆盖带电粒子量分布的覆盖带电粒子量分布算出部34；使用图案密度分布、照射剂量分布以及照射量分布算出因直接带电而导致的带电量分布，并使用多个覆盖带电粒子量分布算出因多个覆盖带电而导致的带电量分布的带电量分布算出部35；算出基于因直接带电而导致的带电量分布以及因多个覆盖带电而导致的带电量分布的描绘位置的位置偏移量的位置偏移量算出部38；使用位置偏移量对照射位置进行修正的修正部42；以及对修正后的照射位置照射带电粒子束的描绘部150。

主权项：1.一种带电粒子束描绘装置，利用偏转器使带电粒子束偏转而在工作台上的基板描绘图案，具备：图案密度分布算出部，将上述基板的描绘区域假想分割为网格状，并算出表示每个网格区域的上述图案的配置比例的图案密度分布；照射剂量分布算出部，使用上述图案密度分布算出表示每个网格区域的照射剂量的照射剂量分布；照射量分布算出部，使用上述图案密度分布以及上述照射剂量分布，算出从放射部放射并照射至上述基板的上述带电粒子束的照射量分布；覆盖带电粒子量分布算出部，对分布中心以及覆盖效应的影响半径不同的多个覆盖带电粒子的分布函数的各个、与上述照射量分布分别进行卷积积分，由此算出多个覆盖带电粒子量分布；带电量分布算出部，使用上述图案密度分布、上述照射剂量分布以及上述照射量分布算出因直接带电而导致的带电量分布，并且使用上述多个覆盖带电粒子量分布算出因多个覆盖带电而导致的带电量分布；位置偏移量算出部，算出基于因上述直接带电而导致的带电量分布以及因上述多个覆盖带电而导致的带电量分布的描绘位置的位置偏移量；修正部，使用上述位置偏移量来对照射位置进行修正；以及描绘部，对修正后的照射位置照射带电粒子束而描绘图案。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 纽富来科技股份有限公司 带电粒子束描绘装置、带电粒子束描绘方法以及程序

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