申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

申请日：2022-09-06

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117706859A

主分类号：G03F1/36

分类号：G03F1/36

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，方法包括：对理想轮廓位于缺陷处的评估点进行调整处理，获得调整评估点；调整处理包括：沿理想轮廓的法线方向调整理想轮廓位于缺陷处的原始评估点的位置，适于增大修正后图形对应的仿真轮廓和理想轮廓之间边缘放置误差的绝对值；对修正后图形进行一次或多次循环迭代的修复处理，每次修复处理包括：以调整评估点作为理想轮廓的评估点，基于修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值，对修正后图形进行全局调整处理；判断修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值是否在预设范围内。本发明实施例提高对缺陷进行修复处理的灵活度，有利于在有限的迭代次数中，修复缺陷。

主权项：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供经过光学邻近修正处理的修正后图形；检测修正后图形是否具有缺陷；在检测所述修正后图形具有缺陷时，对理想轮廓位于所述缺陷处的评估点进行调整处理，获得调整评估点；所述调整处理包括：沿理想轮廓的法线方向，调整所述理想轮廓位于所述缺陷处的原始评估点的位置，适于增大所述修正后图形对应的仿真轮廓和理想轮廓之间边缘放置误差的绝对值；在所述调整处理后，对所述修正后图形进行一次或多次循环迭代的修复处理，每次所述修复处理包括：以所述调整评估点作为理想轮廓的评估点，基于修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值，对所述修正后图形进行全局调整处理；判断修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值是否在预设范围内；在当修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值在预设范围内时，判断修复处理完成，将修复处理后的修正后图形作为掩膜图形。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质

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