申请/专利权人：株式会社国际电气

申请日：2023-08-24

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747476A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/677

优先权：["20220922 JP 2022-150788"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明提供一种能够减少真空泵的耗电量的衬底处理装置、衬底处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质。具备：处理衬底的处理室；将多个排气装置相对于上述处理室并联连接的气体流路；控制上述气体流路中的气体的流通的排气控制部；控制上述排气装置的输出的输出控制部；以及构成为能够控制上述排气控制部和上述输出控制部的控制部。

主权项：1.一种衬底处理装置，具备：处理衬底的处理室；将多个排气装置相对于所述处理室并联连接的气体流路；控制所述气体流路中的气体的流通的排气控制部；控制所述排气装置的输出的输出控制部；以及构成为能够控制所述排气控制部和所述输出控制部的控制部。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社国际电气 衬底处理装置、衬底处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质

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