申请/专利权人:常熟市兆恒众力精密机械有限公司
申请日:2024-03-11
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117878043A
主分类号:H01L21/677
分类号:H01L21/677;H01L21/67
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开
摘要:本发明公开了一种真空腔室及使用真空腔室的半导体处理设备,涉及半导体处理设备领域。本发明中当外腔室密封门转动开闭时,能驱动内腔室密封门在内腔室的外表面沿圆周方向滑动,使得内腔室密封门与外腔室密封门同步开闭;通过将内腔室密封门沿内腔室外表面的圆周方向移动开闭,使得内腔室密封门开启过程中始终紧贴于内腔室的外表面,减小了内腔室密封门开启时所需占用的空间,同时外腔室不会对内腔室密封门的开启造成妨碍,从而能减小外腔室体积和外腔室开口大小,进而增加外腔室的抗压性能和密封性能,有利于提高真空腔室的使用寿命和工作性能,外腔室密封门开闭时同步驱动内腔室密封门移动开闭,使得内腔室密封门的开闭更加方便。
主权项:1.一种真空腔室,包括嵌套设置的外腔室(1)和内腔室(4),其特征在于:所述外腔室(1)的侧壁上开设有外腔室进出料口(2),所述外腔室进出料口(2)内安装有能转动打开的外腔室密封门(3);所述内腔室(4)的侧壁上开设有位于外腔室进出料口(2)内侧的内腔室进出料口(7),所述内腔室进出料口(7)内安装有内腔室密封门(5),且所述内腔室密封门(5)与外腔室密封门(3)传动连接,以使外腔室密封门(3)转动开闭时,能驱动内腔室密封门(5)在内腔室(4)的外表面沿圆周方向滑动,使得内腔室密封门(5)与外腔室密封门(3)同步开闭;还包括有压力控制机构(6),所述压力控制机构(6)能同时对外腔室(1)和内腔室(4)内抽真空或注压。
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权利要求:
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