申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社

申请日：2019-08-08

公开（公告）日：2021-02-12

公开（公告）号：CN112368644A

主分类号：G03F7/11(20060101)

分类号：G03F7/11(20060101);C08G73/06(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/039(20060101);G03F7/40(20060101);H01L21/027(20060101);H01L21/3065(20060101)

优先权：["20180820 JP 2018-153839"]

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态：2022.02.25#发明专利申请公布后的视为撤回;2021.02.12#公开

摘要：本发明的课题在于，提供：对形成能应用湿式工艺、且耐热性、耐蚀刻性、向台阶基板的埋入特性和膜的平坦性优异的光致抗蚀剂下层膜有用的、光刻用膜形成材料等。前述课题可以通过以下的光刻用膜形成材料而达成。一种光刻用膜形成材料，其包含：具有式0A的基团的化合物式0A中，RA为氢原子或碳数1～4的烷基，RB为碳数1～4的烷基；和，具有式0B的基团的化合物。

主权项：1.一种光刻用膜形成材料，其包含：具有式0A的基团的化合物： 式0A中，RA为氢原子或碳数1～4的烷基，RB为碳数1～4的烷基；和具有式0B的基团的化合物：

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用下层膜和图案形成方法

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