申请/专利权人：江苏润阳世纪光伏科技有限公司

申请日：2023-02-22

公开（公告）日：2023-07-04

公开（公告）号：CN219303692U

主分类号：H01L31/18

分类号：H01L31/18

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.07.04#授权

摘要：本实用新型公开了一种硅片去PSG装置，包括沿工艺流程顺序依次设置的上料区、去PSG槽、水洗槽、烘干槽和下料区，硅片通过位于下方的输送辊输送进行去PSG处理；所述上料区内设有水膜系统，水膜系统包括DI水箱和蓄水罐，所述蓄水罐与DI水箱连通，在蓄水罐下方设有滴水阀，通过滴水阀向硅片供水并在硅片的扩散面形成水膜；在水膜系统的下方设有用于收集多余DI水的二次收集利用机构；本实用新型在水膜系统的下方设有二次收集利用机构，对于溢流的DI水能够收集再次利用，减少资源损耗。

主权项：1.一种硅片去PSG装置，其特征在于，包括沿工艺流程顺序依次设置的上料区1、去PSG槽2、水洗槽3、烘干槽4和下料区5，硅片10通过位于下方的输送辊6输送进行去PSG处理；所述上料区1内设有水膜系统，水膜系统包括DI水箱7和蓄水罐8，所述蓄水罐8与DI水箱7连通，在蓄水罐8下方设有滴水阀9，通过滴水阀9向硅片供水并在硅片的扩散面形成水膜；在水膜系统的下方设有用于收集多余DI水的二次收集利用机构。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 江苏润阳世纪光伏科技有限公司 一种硅片去PSG装置

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