申请/专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司

申请日：2023-12-12

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117724307A

主分类号：G03F9/00

分类号：G03F9/00;G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明公开了一种LDI曝光图形位置校准补偿方法、装置及LDI曝光设备，该方法包括：在基板上曝光固定行列间距的MARK点网格；对于MARK点网格所覆盖范围内任意一个待校准补偿的位置，确定该位置所处的目标网格；获取目标网格的四个顶点的误差；根据目标网格的四个顶点的误差计算出该位置的实际曝光图形和理想图形之间的位置误差；根据位置误差对该位置进行校准补偿。本发明采用网格化的补偿方式，实现高精度的位置补偿，并且补偿过程中只依赖于测量系统的精度，与光头数量无关，降低了曝光图形位置的补偿难度，提高了曝光图形位置精度，同时，也降低了对定位平台的绝对精度要求，具有很好的可扩展性。

主权项：1.一种LDI曝光图形位置校准补偿方法，其特征在于，包括：在基板上曝光固定行列间距的MARK点网格；对于所述MARK点网格所覆盖范围内任意一个待校准补偿的位置，确定该位置所处的目标网格；获取所述目标网格的四个顶点的误差；根据所述目标网格的四个顶点的误差计算出该位置的实际曝光图形和理想图形之间的位置误差；根据所述位置误差对该位置进行校准补偿。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 LDI曝光图形位置校准补偿方法、装置及LDI曝光设备

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