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【发明公布】一种提高LDI扫描曝光精度的方法_合肥芯冠半导体有限责任公司_202311131706.7 

申请/专利权人:合肥芯冠半导体有限责任公司

申请日:2023-09-04

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN117724298A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20;G02B26/08;H05K3/06

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要:涉及PCB板制版技术领域,具体涉及一种提高LDI扫描曝光精度的方法;S1.通过运动平台触发位置信号,DMD接收位置信号后翻图,每个位置信号的上升沿DMD的图形切换一次;S2.DMD镜片完成翻转后产生一个高电平,激光器在高电平期间打开,低电平期间关闭;步骤S1中运动平台的信号触发间距为图像像素点大小的整数倍,运动平台的移动速度小于DMD最大帧频与信号触发间距的乘积;本申请通过控制触发间距,保证运动信号的触发信号发出周期为运动整数个像素点所需时间,并控制平台运动速度小于信号触发间距与DMD最大帧频的乘积来保证DMD可以对单个图像像素点进行处理,可有效提高图形的曝光质量。

主权项:1.一种提高LDI扫描曝光精度的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:S1.通过运动平台触发位置信号,DMD接收位置信号后翻图,每个位置信号的上升沿DMD的图形切换一次;S2.DMD镜片完成翻转后产生一个高电平,激光器在高电平期间打开,低电平期间关闭;步骤S1中运动平台的信号触发间距为图像像素点大小的整数倍,运动平台的移动速度小于DMD最大帧频与信号触发间距的乘积。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 合肥芯冠半导体有限责任公司 一种提高LDI扫描曝光精度的方法

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