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【发明授权】具有排出路径的半导体装置及其制造方法_株式会社电装_202010185159.0 

申请/专利权人:株式会社电装

申请日:2020-03-17

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN111725078B

主分类号:H01L21/50

分类号:H01L21/50

优先权:["20190320 JP 2019-053429"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.22#授权;2021.10.12#实质审查的生效;2020.09.29#公开

摘要:在半导体装置中,第一基板10和第二基板40通过绝缘膜30彼此接合。在第一基板10与第二基板40之间设置有气密室50,在该气密室50内封闭有感测部20。第二基板40具有在第一基板10和第二基板40的堆叠方向上贯通的通孔61,并露出第一基板10的第一表面10a。贯通电极63设置在第二基板40的通孔61的壁表面上,并与感测部20电连接。在位于气密室50与通孔61之间的位置处设置有排出路径80,用于将接合时产生的废气从气密室释放至通孔。

主权项:1.一种半导体装置,包括:具有第一表面10a的第一基板10;具有第二表面40a的第二基板40,所述第二基板40接合到所述第一基板10,使得所述第二表面40a面向所述第一基板10的所述第一表面10a,并且在所述第一基板10与所述第二基板40之间设置有气密室50,所述第二基板40具有多个通孔61,所述多个通孔61沿所述第一基板和所述第二基板的堆叠方向贯通所述第二基板40并暴露所述第一基板10的所述第一表面10a;设置在所述第一基板10的所述第一表面10a与所述第二基板40的所述第二表面40a之间的绝缘膜30;设置在所述气密室50中的感测部20,所述感测部20包括振动器;设置在所述第二基板40的所述通孔61的壁表面上的多个贯通电极63,所述贯通电极63与所述感测部20电连接;和多个排出路径80,每个所述排出路径80由通过所述绝缘膜30限定的凹槽提供,所述多个排出路径在位于所述气密室50与所述通孔61之间的位置处对应于所述通孔设置,以将废气从所述气密室释放到所述通孔。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社电装 具有排出路径的半导体装置及其制造方法

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