申请/专利权人：深圳华大智造科技股份有限公司

申请日：2022-08-02

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117730396A

主分类号：H01L21/02

分类号：H01L21/02

优先权：["20210804 US 63/229,268"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.19#公开

摘要：核酸测序系统可以包括含有三维图案化表面的衬底。三维图案化表面可以限定纳米孔，每个纳米孔包含用于结合到核酸模板分子的衍生化区域。纳米孔的直径可以是100nm，中心到中心间距为350nm。衬底可以包含反射层和等离子体增强层用于在核酸测序期间增加荧光信号。

主权项：1.一种为核酸测序制备三维图案化衬底的方法，所述方法包括：提供平面衬底；限定凹入所述平面衬底的顶表面下方的多个纳米孔，其中所述纳米孔排列成阵列，限定表面化学，使得每个纳米孔包括结合表面，所述结合表面包括被配置为结合至模板核酸分子的表面化学；以及将模板核酸分子结合至所述结合表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳华大智造科技股份有限公司 利用三维衬底的测序系统和方法

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