申请/专利权人：中山智隆新材料科技有限公司

申请日：2024-01-12

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117865651A

主分类号：C04B35/01

分类号：C04B35/01;C04B35/622;C04B35/64;C23C14/35

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本申请涉及溅射靶材技术领域，具体公开了一种用于溅射薄膜晶体管的掺杂IZO靶材及其制备方法。一种用于溅射薄膜晶体管的掺杂IZO靶材，包括多元氧化物粉末、粘结剂和增塑剂；所述多元氧化物粉末包括以下重量份的原料：氧化铟86‑89.6份，氧化锌9.5‑12.8份，氧化锆0.5‑1.2份，氧化铊0.1‑0.4份，所述多元氧化物粉末的比表面积为8m2g‑20m2g，松装密度为0.91gcm3‑1.55gcm3。本申请的用于溅射薄膜晶体管的掺杂IZO靶材，通过锆、铊元素添加到多元氧化物粉末中，利用氧化铊低熔点形成液相反应，与氧化锆形成低熔共晶物，和氧化铟、氧化锌复配，能够减少靶材气孔率、降低靶材电阻率，进而提高溅射薄膜的电学和光学稳定性。

主权项：1.一种用于溅射薄膜晶体管的掺杂IZO靶材，其特征在于，包括多元氧化物粉末、粘结剂和增塑剂；所述多元氧化物粉末包括以下重量份的原料：氧化铟86-89.6份，氧化锌9.5-12.8份，氧化锆0.5-1.2份，氧化铊0.1-0.4份，所述多元氧化物粉末的比表面积为8m2g-20m2g，松装密度为0.91gcm3-1.55gcm3。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中山智隆新材料科技有限公司 一种用于溅射薄膜晶体管的掺杂IZO靶材及其制备方法

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