申请/专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日:2023-11-14
公开(公告)日:2024-04-12
公开(公告)号:CN117877977A
主分类号:H01L21/329
分类号:H01L21/329;H01L29/872;H01L29/24;H01L29/36
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开
摘要:本发明提供一种氧化镓肖特基二极管及其制备方法,制备方法包括以下步骤:S1、准备氧化镓漂移层衬底;S2、在所述氧化镓漂移层衬底的下表面外延生长重掺杂氧化镓薄膜;S3、在所述氧化镓漂移层衬底的上表面沉积金属阳极电极;S4、在所述重掺杂氧化镓薄膜下表面沉积金属阴极电极。本发明以漂移层为衬底,在其表面外延生长一层重掺杂氧化镓薄膜,改善漂移层的接触特性,从而显著降低器件比导通电阻。
主权项:1.一种氧化镓肖特基二极管的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、准备氧化镓漂移层衬底;S2、在所述氧化镓漂移层衬底的下表面外延生长重掺杂氧化镓薄膜;S3、在所述氧化镓漂移层衬底的上表面沉积金属阳极电极;S4、在所述重掺杂氧化镓薄膜下表面沉积金属阴极电极。
全文数据:
权利要求:
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